摘要:金属硅是工业提纯的单晶硅,主要用于生产有机硅、制取高纯度的半导体材料以及配制有特殊用途的合金等。是非常重要的工业材料。硼作为金属硅中的一项重要杂质元素,能够准确快速地测定具有非常重要的意义。三氟化硼极易挥发,即使用微波消解或用水域控温也难以避免有所损失。张桂广提出样品中加入适量的甘露醇,并控制蒸发温度等条件,可以用ICP-OES法测定金属硅中的硼(B)和其他一些痕量的杂质元素。本文在将乐三晶新材料有限公司,使用钢研纳克Plasma1500对高纯单晶硅和硅硼中的硼进行检测,实验结果与预期相符。
关键词:Plasma1500;甘露醇法;ICP-OES;硅硼;单晶硅;硼含量
1.实验仪器及试剂
1.1仪器:钢研纳克Plasma1500;
1.2 试剂和药品:
1.2.1 硝酸(ρ 1.42 g/mL),优级纯以上试剂。 1.2.2 硝酸溶液(1+1)。
1.2.3 盐酸(ρ 1.19 g/mL),优级纯以上试剂。 1.2.4 甘露醇2% 分析纯以上试剂。
1.2.5 硼元素的标准溶液 1000μg/mL。 1.2.6 高纯水,GB/T6682,至少一级。
1.2.7 氢氟酸(ρ 1.15 g/mL) 1.2.8 铂金坩埚或者聚四氟乙烯烧杯。
1.2.9 样品要求:固体样品,细小,无油污。 1.2.10 硼标准储备液 10000ug/mL;
2.分析谱线
推荐分析元素谱线
元素 谱线/nm 负高压
B 208.959,249.773 800
(根据干扰和测量浓度高低情况,可以选择其中一条或几条谱线作为分析线)
3.分析步骤
3.1硼的检测
3.2根据高纯金属硅样品中的杂质含量称取1.0000g,
3.3样品前处理
称取高纯金属硅样品m=1.0000g(精确至0.0001g),置于铂金坩埚或者聚四氟乙烯烧杯中,用少许水清洗杯壁并,润湿样品;加入2mL甘露醇(2%),缓慢加入15mL氢氟酸,滴加硝酸溶液(1+1),反应剧烈,注意防止飞溅溢出,待反应平静后,观察是否溶解完全,加热至近干(粘糊状液滴,体积小于1mL,控制温度低于140℃),取下冷却;加入5mL硝酸,低温溶解残渣(温度低于80℃),待样品完全溶解后,冷却至室温,转移到V0=50mL容量瓶中,冷却至室温,再用纯水稀释至刻度,摇匀,备用,检测硼,含量0.0002%-0.0040%)。必要时根据工作曲线范围,稀释待测溶液。随同做空白实验。
M=称样质量;V=V0
质量百分浓度P%=C测量*V/M*0.0001 %,质量浓度ug/g= C测量*V/M
注意:
1)高纯金属硅中有些元素含量超低,使用试剂和水需要高纯,器皿清洁;
2)标准溶液配置时注意介质干扰,建议B单独配置;
3)采用玻璃进样系统,测量时会对进样系统有轻微的腐蚀;
4)样品溶解时,氢氟酸用量较大,注意器皿采用铂金坩埚或者聚四氟乙烯和塑料;
4.硼标准曲线的制备
标准溶液体积:100mL
根据下表体积分别移取各个元素至100mL的容量瓶中,得到各元素混合标准溶液浓度:
以下浓度单位是ug/mL(mg/L),体积单位是mL
元素 B
原始浓度C0(ug/mL) 1000
移取C0体积(mL) 10.00
混合标液浓度C1 100.00
加入5mL硝酸(1+1),用水定容、摇匀、备用。
以下单位是ug/mL(mg/L)
元素 B 移取混合标准C1体积/mL
标准1 0.00 0.00
标准2 0.10 0.10
标准3 0.20 0.20
标准4 0.50 0.50
标准5 1.00 1.00
标准6 2.00 2.00
加入1mL甘露醇(2%),再加入5mL硝酸,冷却后用水定容、摇匀、备用。
5.实验结果与数据
5.1 标准曲线(ug/mL)
标准1 标准2 标准3 标准4 标准5 标准6
B 208.959 -0.0064 0.0884 0.2190 0.4781 1.0334 1.9875
B 249.733 -0.0157 0.0881 0.2566 0.4578 1.0152 1.9979
5.2 样品数据(ug/mL)
空白 硅硼1 硅硼2 RSD% 单晶硅1 单晶硅2 RSD%
B 208.959 0 200.6780 202.1800 0.53 69.1161 70.7939 1.70
B 249.733 0 196.3487 195.8520 0.18 70.6423 70.5178 0.12
有用过其他方法做过硅中硼的,欢迎讨论。邮箱15622269869@163.com,电微同号。
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