首页
全部版块
工艺技术 问题13w
化学学科 问题13w
仪器设备 问题12w
安全环保 问题4w
材料科学 问题1w
化药 问题1w
化学学科

su-8光刻胶做微流控芯片 显影有问题

曝光后后烘65℃ 10min，95℃ 30min，显影时发现不到三分钟就行液体进入硅片和光刻胶中间一样，腔室下有水波纹，周围还没有冲掉的情况下，腔室就开始慢慢脱落

显示全部
关注问题 已关注 回答 0条评论 邀请回答 分享 举报
monee
0人参与回答
 
相关问题
核酸的发现和发展是怎样的? 1个回答
臭氧氧化如何去除再生水中的... 1个回答
你知道哪些VOCS废气处理... 2个回答
低温甲醇洗工段有哪些常见故... 1个回答
谈谈催化剂在聚氨酯发泡材料... 1个回答
编辑推荐
三价铬溶液颜色问题？ 15个回答
能否用离心代替旋蒸去除乙醇... 2个回答
想请教下靛蓝染料在紫外分光... 4个回答
硫酸钙结垢，用什么清洗掉? 4个回答
氰基取代苯环上的卤素的反应... 0个回答
盖德问答 盖德问答是盖德化工网旗下的化工人互助问答社区，用户可以提出问题、解决问题、或者搜索其他用户沉淀的精彩内容。
盖德问答 联系我们 不良信息举报 用户协议
支持我们 加入我们 专家入驻
公司介绍 关于我们 商务合作
关注盖德视界 添加小助手
版权声明© 盖德化工网 浙B2-20090288-37
 
这是一条消息提示
 
提醒
您好，您当前被封禁天，这天内您将不能登陆盖德问答，离解封时间还有天
我已了解
提醒
提问需要5个能量值，您当前能量值为，请完成任务提升能量值
去查看任务