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工艺技术

还原炉中的二氯二氢硅？

还原炉中，二氯二氢硅是如何产生的？ 比例有多大？这个比例，可以是还原尾气进VGR前的，也可以是VGR氯硅烷中的含量？大家应该有分析。 其反应过程，我看有的资料上面讲是 2SIHCL3=SIH2CL2+SICL4， 有的资料上面讲是 SIHCL3+h2=SIH2CL2+HCl， 不知道哪一个是对的，或者还是由其他反应过程或方程？ 我很想搞清楚这个问题，晚上都睡不好，白天吃不香，但问了很多人，都没人讲明白，想在这里搞明白。 谢谢了。 显示全部
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复方珊瑚
4人参与回答
树敌
，化工研发 2018-08-03回答
细小的粉末应该是不定型硅吧，应该是温度不合适造成的，越大的炉子，温场越不均匀，开起来越容易有这个粉末。。。还是要看温度和物料控制，具体的也说不好。
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山外有海漾
，设备工程师 2018-08-03回答
那问什么还原炉里面还会产生好多细小的粉末，那玩意是什么啊，怎么产生的
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亡暮朽歌
，设备维修 2018-08-03回答
其实很多副反应可能是歧化反应、还原反应和氢化反应的结合体
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奶酪馅饼
，销售 2018-08-03回答
硅沉积快则二氯二氢硅产生少，要想办法提升硅的沉积率才能大幅减少这个东西！
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