工艺技术

cv在低扫速下出现两个氧化峰？

镍网作集流体， 电解液：6M NaOH。??活性物质直接长在镍网上的，低扫速下出现的那个氧化峰是电解液氧化？或是镍网(纯镍网测的氧化峰的位置在0.44V左右，与靠后的峰接近，这......）求分析~

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酒肆茶馆

5人参与回答

亡暮朽歌

，设备维修 2018-03-30回答

请问一下，我在文献上看的用镍网搭载正极材料，所说的镍网指的是泡沫镍吗

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娇羞

，工艺专业主任 2018-03-30回答

楼上说的有道理，用镍网试一下，再用你的活性物质长在其他基地上试一下，对比就行了

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训乖

，应届毕业生 2018-03-30回答

纯的样品测试过cv 氧化峰在那个位置比对一下

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忘怀.

，给排水工程师 2018-03-30回答

纯的样品测试过cv 氧化峰在那个位置比对一下我对比了的，5mv扫速的时候镍网的峰在0.44v左右，与图中明显（较后）的那个峰相近，可是那个峰不该是宝宝活性物质的峰嘛~~较前面的峰才是新出现的吖，所以前面那个不知道是啥，

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眼泪的错觉

，实验室主任 2018-03-30回答

您好，我测出来的cv是只有二四象限有，请问是什么原因？可以交流交流吗？

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