°黎薄丶°葑薄--盖德问答-化工人互助问答社区

°黎薄丶°葑薄

影响力0.00

经验值0.00

粉丝11

给排水工程师

关注已关注 私信

他的提问 2356 他的回答 13936

帮我分析下我的紫外可见光谱？ 大叔，你这是用玻璃比色皿做的吧。应该用石英的，太水了。查看更多

3 0条评论

Cu的标准曲线怎么测定，有没有什么标准？ 1、gb/t 8538-2008 饮用天然矿泉水检验方法（4.17.1火焰原子吸收分光光度法测铜含量：铜含量测定范围0.2mg/l～5.0 mg/l）2、gb/t 13689-2007工业循环冷却水和锅炉用水中铜的测定? ?? ? 本标准规定了天然水、工业循环冷却水和锅炉用水中铜含量的测定方法。? ?? ? 本标准二乙基二硫代氨基甲酸钠分光光度法适用于工业循环冷却水、各种工业用水及生活用水中铜含量0.01mg/l～2.00mg/l的测定；二乙基二硫代氨基甲酸钠直接光度法适用于不含悬浮物的工业循环冷却水中铜含量0.05mg/l～6.00mg/l的测定，查看更多

4 0条评论

来自话题：

化学学科

，

怎样能够证明有金属盐的生成? thank请问原子发射光谱费用多少？了解吗哈，应该不贵吧，就两三百吧，很多高校测试中心都有得做啊，打电话问问吧~！查看更多

8 0条评论

来自话题：

化学学科

，

做XRD时，载体掩盖了活性组分的衍射峰，怎么解决? 还有就是，如果活性组分不是载体掩盖了，而是确实没有活性组分ni的衍射峰，那又怎么解释呢？难道仅仅说ni的分散性好这么简单吗本文来自: 盖德你可以做一下电镜扫描，进行综合性分析，看下ni粒径的大小就可以知道是否真的是ni分散性的好坏。查看更多

7 0条评论

Zsimpwin模拟的%error和ChiSq？看%error，很多文献上有，盖德上也有！一般可接受的模拟%error结果10e-5吧！我模拟的最小误差就是10e-2，怎么办，各个电路都试过了，是不是我的做的数据不准确？查看更多

9 0条评论

Zsimpwin测试请教？基于前面你描述的体系特点，这个阻抗图，是对电极（li）和litio电极的综合表现。li电极上有电化学反应发生，而litio电极上无电荷传递。所以，体系的等效电路应该描述成r(qr)q。第一个r，是扣式电池的欧姆电阻，（在模拟电路中，c和q有什么区别不？这样的模型是不是相当于两个半圆，图中应该有一个半圆，是不是有什么原因呢？求赐教，谢谢，查看更多

2 0条评论

Alfa Aesar试剂大家都怎么定? 我们这一般是从北京伊诺凯那里订查看更多

7 0条评论

来自话题：

化学学科

，

AIBN是否可以作为紫外光引发剂？不能做光引发剂，不过在光引发的聚合过程会产生大量的热，这些热量可以热引发 aibn分解，正常都是加热分解的，80℃半衰期好像就2-3个小时没记错的话。光引发剂有好多啦??184 tpo bp等等查看更多

4 0条评论

为什么2%黄原胶无法复配入水包油乳液中? 可以容低含量如0.5% 的黄原胶溶液试试查看更多

5 0条评论

ICPMS内标不稳定，飘的超出范围是什么原因？ 估计是仪器出了故障。我之前做样品，在连续做20个以后必须增加质控样，一旦是质控样超出范围，必须停止进样，再重新调谐机器。，查看更多

6 0条评论

来自话题：

化学学科

，

如何测ZSM-5催化乙醇制备低碳烯烃的产物? 柱温50-180℃程序升温，进样器温200度??检测器200度??怀疑你的检测器用120度能点着火吗查看更多

8 0条评论

来自话题：

化学学科

，

单组份聚氨酯干的快什么原因？ 你这溶剂挥发太快太快查看更多

9 0条评论

来自话题：

化学学科

，

工艺技术

，

TiO2浸在氯金酸溶液中，之后加硼氢化钠还原表面负载Au，制备的样品溶于水产生小黑点。？ 不知你的条件如何，应该是还原太快了，形成大粒径颗粒。可以：降低硼氢化钠添加速率；利用保护剂制备au纳米粒子查看更多

3 0条评论

来自话题：

工艺技术

，

关于络合萃取的一些问题？ 我也想用n235去萃取甲酸废水，废水中也含有少量的硫酸，你采用n235处理后效果如何啊？查看更多

5 0条评论

来自话题：

化学学科

，

工艺技术

，

细胞及分子

，

Suzuki 交叉偶联反应？ 我们最近用石墨烯负载的pd做催化剂，用的是水/乙醇（体积比1/1）的混合溶剂！查看更多

1 0条评论

来自话题：

化学学科

，

工艺技术

，

在保护气（例如：N2， Ar）下能够还原ZnO,TiO2,SnO2等氧化物吗? 用的是高纯氩气！没有加任何还原气体！另外我想知道高纯氩气下如果不能还原zno,那能不能在zno上面造成氧空位！？谢谢我认为楼主还是想比较氧气气氛和惰性气氛氧化物的导电性吧，据我所知，在氧化气氛下氧空位会少一些，查看更多

1 0条评论

来自话题：

化学学科

，

工艺技术

，

合成MCM-41时候用无机硅源NaSiO3和TEOS对合成的催化剂有什么不同? 硅源对于分子筛制备的影响主要由硅物种的水解和聚合速率控制，其硅源的聚体形式影响分子筛的织构参数。不同硅源对mcm一41分子筛的制备影响较大，尤其是分子筛合成体系的ph值和晶化温度。无机硅源制备的分子筛的比表面积远大于有机硅源制备的，其影响的主要因素归结于硅源中的硅物种水解和聚合速率不同，导致其以不同的多聚体硅物种存在，因此其与表面活性剂相互作用并自身缩合的作用不一致。详细请参考“硅源对介孔v—mcm-41分子筛合成机制的影响”一文。查看更多

6 0条评论

十二烷基苯磺酸钠溶液？常温下25%浓度的溶液是无色透明的液体，有一定的粘度；温度低于常温（如北方冬天时），溶液会在下层出现白色膏状或絮状之类的东西。若是25%以上的，常温下溶液下层就会出现白色膏状或絮状，浓度越高，其白色膏体越多，粘度越大。浓度再高，整体就会是膏状了，类似肥皂了，查看更多

6 0条评论

工艺流程图和管道布置图区别？ 1、工艺流程图是概述一个工艺生产过程的图纸，它没有定位尺寸，其主要目的是描述工艺具体实施方案，比如物料的走向、设备的作用、装置的标号等，可以说是工艺的总图纸。2、管道布置图主要突出的是管路的走法，管路的定位，管路的安装方法，管路的尺寸，该图纸主要是施工图纸之一，用于定位各个管路的安装位置。施工时应该两个图纸都要有，工艺流程图是从总体上把握，而管路布置图是从具体的细节上进行定位，两张图纸配合施工，查看更多

#工艺流程

9 0条评论

来自话题：

化学学科

，

工艺技术

，

常见的gama-氧化铝的比表面大概是多少？ 我自己参考专利做出来的γ-氧化铝，500℃煅烧6 h，用康塔测比表面积，328.9；400℃煅烧6 h 测得比表面积为353.9 查看更多

4 0条评论

上一页319 320 321 322 323 324 325 326 327 328 329下一页

简介

职业：中安信科技有限公司 - 给排水工程师

学校：淄博职业学院 - 化学工程系

地区：贵州省

个人简介：若有一个人保护，是不是就能不自我保护？我不懂。查看更多

喜爱的版块返回首页

已连续签到天，累积获取个能量值

第1天
第2天
第3天
第4天
第5天
第6天
第7天