重金求助：半导体导带底和PH的关系？

不错，当半导体与第二相（这里是水溶液）接触时，价带和导带能级要发生弯曲，弯曲的方向取决与半导体是N/P型，弯曲的程度一般都很小。但从你给的图1来看，半导体能级随pH的变化是很大的，以前没有见到过能级弯曲程度 ... 你好。我在文献中看到，一般金属氧化物的平带电势（flat band potential）随PH呈现Nernst变化趋势，即-59mv/PH. 而水溶液的氧化还原势随PH也是nesnst变化趋势。这样是不是说明金属氧化物相对水溶液的氧化还原能力不随PH变化?另外，请问您有没有听说过硫化物的平带电势随PH的变化要小于59mv/PH?

不错，当半导体与第二相（这里是水溶液）接触时，价带和导带能级要发生弯曲，弯曲的方向取决与半导体是N/P型，弯曲的程度一般都很小。但从你给的图1来看，半导体能级随pH的变化是很大的，以前没有见到过能级弯曲程度如此之大的。如果这个图是实测的话，那你的理解是正确的。

从图1来看，半导体能级与H+的电位都随pH同步线性变化，其结果好像是氧化物的氧化还原能力不随PH变化，但我觉得实际情况要复杂得多，比如，很多金属氧化物在碱性溶液中就变得不稳定，氧化膜的结构开始变化，其电子结构也会改变，这时再用现在的半导体能带模型理解可能就不适合了。你提到的硫化物半导体的平带电位，我没有看到过类似的文献。

不知道我理解的对不对，独立的半导体的导带是其本身的性质。然而当半导体与溶液接触时，形成半导体-溶液界面。pH值的不同或许会导致半导体表面H+吸附的情况不同，于是跨越半导体-溶液界面的电势差发生变化，所以半导体表面附近的能带弯曲变化也不同。其实我也有一个问题：就是半导体发生能带弯曲时，到底半导体体相内部的能级不变，表面附近的能带发生弯曲呢？还是半导体表面能带不变，体相内部的能级相对于表面处发生了弯曲？

你这种善于思考分析问题的方式值得嘉奖。你的质疑是正确的，半导体导带能级不会随pH升高而变化，变化的H+的还原电位随pH增加而变得更负。要想半导体导带上的电子转移到H+能级上，H+的能级必须低于导带能级，根据你 ... 您好。谢谢你的回复。根据图一在文章中给的说明，我觉得应该理解为半导体导带位置变化：FIGURE 1. pH dependence of the conduction band edge and valenceband edge of pyrite in an aqueous electrolyte solution described by(a), a pH-Eh diagram,不过你的提示，让我觉得会不会是半导体导带和H+的位置都在变得更负，只是H+变得更多，导致它们之间的差距在PH提高之后变小。您觉得是否是这样的，

不知道我理解的对不对，独立的半导体的导带是其本身的性质。然而当半导体与溶液接触时，形成半导体-溶液界面。pH值的不同或许会导致半导体表面H+吸附的情况不同，于是跨越半导体-溶液界面的电势差发生变化，所以半导 ... 半导体与溶液发生接触时，由于半导体和溶液的费米能级不同，两者之间会发生电子转移形成费米能级的相互匹配。匹配过程中半导体的价带和导带就会发生弯曲了，也就是我们通常看到的那样。电子的转移量不会很大，因此只是半导体与溶液接触面的能带发生了弯曲，半导体内部的能带位置不发生变化

你这种善于思考分析问题的方式值得嘉奖。你的质疑是正确的，半导体导带能级不会随pH升高而变化，变化的H+的还原电位随pH增加而变得更负。要想半导体导带上的电子转移到H+能级上，H+的能级必须低于导带能级，根据你给的E-pH图可以看出，原来在酸性和中性条件下H+能还原的反应，不一定就能在碱性区域发生。因为，半导体导带能级位置还是原来的位置，可碱性下H+的电位能级位置却向上移动，有可能接近甚至向上超过导带能级，这时发生从导带向H+能级转移电子几率降低，甚至不转移了。因此，CdS文献中观察的结果是对的，可那个作者误认为pH改变了半导体的导带位置。