请问纯镍网测试时出现以下情况，为什么？鉴于你的集流体的原因，购置的镍网或多或少会有表面的氧化出现nio层，所以在3m的koh体系下出现这样的cv曲线和cc曲线在正常不过，而且你也对比了自己的fe2o3的充放电时间是他的十倍左右更加可以验证nio应该是有影响但是并不占主要。而且你的cv曲线和cc的特征峰也符合氧化镍在koh电解液下的氧化还原峰特征。你可以多查看些泡沫镍上沉积氧化物做电容器的论文，都会对泡沫镍集流体进行前处理（当然前处理也不能全部去除只能尽量减少）去减少集流体的影响。以下这篇文章及支持信息就有详细探讨处理后的泡沫镍的影响。（huang m, li f, ji j y, et al. facile synthesis of single-crystalline nio nanosheet arrays on ni foam for high-performance supercapacitors[j]. crystengcomm, 2014, 16(14): 2878-2884.） 所以说你处理以后会好些，就算不处理，在支持信息对集流体的影响予以说明也ok的，查看更多
第1天
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