屏蔽泵的选型很重要，高纯stc建议选用316或者316l，使用寿命长点。 物料中是否带有细小的硅粉，这个是关键 ... 谢谢了 学习了

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各位老大：我想问一下，副产的四氯化硅给补贴让外面拉走进行处理是多晶硅生产厂家的必由之路吗？望各位老大 ... 在国内多晶硅行业刚起步的时候，为了尽快出产品，回笼资金，收回投资，部分企业氢化项目没有上或者延迟上马，导致副产物四氯化硅无法消耗，只能给补贴让外面拉走处理。 近年来，多晶硅行业暴利阶段已经过去，多晶硅价格回归合理区间，整个行业也慢慢开始走向正轨。 由于全球经济危机、欧债危机、欧洲部分国家降低光伏补贴以及美国对中国太阳能组件启动反倾销调查等影响，导致多晶硅行业库存猛增，多晶硅价格已经逐渐探底，但不见反涨迹象。在这样的大背景下，降低成本以及成了各大多晶硅企业的必由之路，而氢化项目的上马就成了必需。甚至有部分企业只上马氢化项目，专门从其他多晶硅生产公司购买四氯化硅进行氢化，之后卖出三氯氢硅产品。种种原因导致现在四氯化硅已经基本不需要给补贴让外面拉走处理做白炭黑等。 另请参照此帖： https:///thread-925861-1-2.html

对四氯化硅转化为三氯氢硅的状况总算是有了一个较全面的认识。

做出来当然可以做出来的！但是即使你做出来，你没有标准的分析方法，怎么确定这么高品质的东西！ b含量、 ... 我们做出来了，长飞也再用我们的产品，订单做不过来了，问题是市场上没有四氯化硅了！纠结！

四氯化硅，化学式SiCl4，是一种无机化合物，为无色或淡黄色发烟液体，可混溶于苯、氯仿、石油醚、乙醚等多数有机溶剂，主要用于制取纯硅、硅酸乙酯等，也用于制取烟幕剂。

四氯化硅具有以下性质特点和应用：

一、性质特点

1.外观：四氯化硅是一种无色透明的液体，具有特征性的刺激性气味。

2.密度：四氯化硅的密度较高，约为1.48 g/cm3。

3.沸点：四氯化硅在常温下是液体状态，其沸点约在-23°C。

4.熔点：四氯化硅的熔点较低，约在-68°C。

5.化学反应：四氯化硅在潮湿条件下可以水解，释放出盐酸气体，并生成硅酸。这使得它在一些化学合成反应中成为有用的反应中间体。

二、四氯化硅的应用

1.制备硅材料：四氯化硅是硅材料制备的关键前体之一。通过四氯化硅的气相沉积或沉淀反应，可以制备多晶硅和非晶硅等多种硅材料，用于半导体制造和太阳能电池等领域。

2.化学合成：四氯化硅在有机合成中常用作氯化试剂，用于引入氯原子到有机分子中，从而改变分子的性质或结构。它还可用于制备其他硅化合物，如硅氢化合物。

3.制备光纤外包层：四氯化硅可用于制备光纤的外包层，其中它通常与氢气和氯气一同使用，通过气相沉积方法来制备硅氧化物材料。

4.制备其他硅化合物：四氯化硅也用于制备其他硅化合物，如硅酸、硅酸酯、硅酮等，这些化合物在多个领域中有广泛的应用，包括化学、材料科学和电子工业。

总之，四氯化硅是一种重要的无机化合物，具有多种应用，尤其在硅材料制备和化学合成领域发挥关键作用。由于其刺激性气味和危险性，必须在适当的环境和设备下小心使用。

三、四氯化硅在半导体工业中有多种应用

1.蚀刻剂：四氯化硅可以用作半导体器件制造中的蚀刻剂。它具有高度的选择性，能够去除特定材料层，例如硅（Si），而不损害其他材料。这在制备微细结构和多层堆叠器件时非常关键。

2.清洗和脱脂：四氯化硅还可用作清洗和脱脂剂，用于去除器件表面的有机和无机污染物，确保制程的纯净度。

3.腔体清洗：在半导体设备中，四氯化硅也可用于腔体清洗，清除设备内的残留物和污染。

4.化学机械抛光（CMP）：四氯化硅被用作CMP过程中的蚀刻液体添加剂，有助于控制表面平整度，去除不均匀的材料层，提高半导体器件的制造质量。

5.干法刻蚀：四氯化硅通常用于干法刻蚀工艺，如反应离子刻蚀（RIE），无需使用液体溶剂，减少了废液处理的复杂性和环境影响。

总的来说，四氯化硅在半导体制造中的应用主要涉及蚀刻、清洗、脱脂、CMP和干法刻蚀等工艺步骤。它具有高选择性和腐蚀效率，有助于确保半导体器件的质量和性能。需要注意的是，半导体工业中使用四氯化硅需要遵循严格的安全和环保标准，以确保工作人员的安全和制程的可持续性。

选择流量计时，也得请注意四氯化硅（见水反应）的组分，若高沸物含量高，流速低，流量计通量小的话，很容易被堵塞哦。拆卸下来的话也要注意密封或者清洗。

好的四氯化硅可以氢化回收，排残液排出的东西，目前有用水解回收硅的 路过好奇，水解回收硅，以后工序是怎么处理 的