沸石硅羟基红外表征,3745峰没出来,3444位置有较大峰,求原因?盖德的各位老师兄弟姐妹,小弟最近做了一组 沸石 的红外表征,目的是想表征沸石硅羟基在处理过程的变化,文献报道表征过程一般是压片后在真空腔室中升温脱附,可我暂时没这条件,所以为了排除吸附水的干扰,特意在 马弗炉 中450度焙烧6个小时然后马上红外灯下压片制样做。结果在4000-3000波数范围内的图形如下第一张图所示,在3440处还是有一很大的峰,这个峰看文献可能还是吸附水的羟基峰,对于如何排除此峰干扰,不知道的老师兄弟姐们有何见解。1,是不是必须通过原位红外仪器,真空干燥表征?2,还是说可以尝试数据后处理也行,因为我在不少文献中看到有“The absorbance values were normalized with the 1882 cm-1 band corresponding to the Si-O overtone of zeolite framework"这么一句话,也不是很懂?根据啥来正常化?小弟在此谢过红外方面大牛不吝指导!附图:第一张为我的原始数据,第二章为我希望得到的类似图,截自文献;红外图.JPG文献图1.jpg查看更多4个回答 . 2人已关注