O2-TPD 求助? 仅仅在he气氛下100度干燥是不妥当的,焙烧后的催化剂冷却时会吸附包含氧在内的各种杂质(水,实验室气氛等)这些杂质在tp过程脱附出来就会影响检测器的信号。有些孔材料水tp过程中150度还脱不干净,少量有机物要在300度以上才能除去。400度保持1h相当于是洁净表面过程,且只能原位进行,只要样品一接触大气,杂质吸附瞬间完成,到时脱附的就不一定全是氧气了。 当然400度热吹扫清洁这个温度不是绝对的,取决于催化剂稳定性,一般这个温度低于或等于焙烧温度;80度也不是绝对的,通常这个温度在100左右。[ last edited by dy322112 on 2010-10-13 at 21:12 ], 查看更多