CHI工作站上如何实现current pulse技术呢?各位电化学大侠:? ? 请问CHI 工作站 上如何实现current pulse技术呢?? ? 文献是这样的:an external bias (0.2 V vs Ag/AgCl.)was applied in the form of current pulses alternating between 10 μ A/cm2 for 3 s (deposition pulse) and 1 μ A/cm2 for 2 s(resting pulse). ? ?? ? 工作站有几个相关技术可以选:多电位阶跃,多电流阶跃,差分脉冲电流法。? ? current pulses 到底是要控制恒电位还是恒电压呀?查看更多4个回答 . 19人已关注