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---雾霾有危机，也有商机。？ 眼光犀利！！！查看更多

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氯碱厂初期生产中经常碰到的问题? １　在一次盐水，容易出现过碱量波动；氯化钠浓度波动；ｐｈ值调节出现变化；硫酸根的富积导致不好控制．２　二次盐水，出现树脂塔出口钙镁等超标；阀门出现异常；树脂再生效果不好等．３　电解，容易出现操作失误．４　氯处理，容易出现含水不合格．５　液化，容易出现阀门操作失误．６　盐酸，容易出现盐酸质量波动；紧急情况下的应对可能稍差．查看更多

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水煤浆的制备？ 输送水煤浆的泵那里的好些？质量好不易出问题，好多气化炉停车都是有于煤浆泵出现故障才停的！查看更多

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Nano Lett. 中几个关键概念求助（锂电）？前面是充放电过程中材料的变化带来应力变化，一维nanowire or nanorod的很容易释放这些应力；后面可能指的是这些nanowire or nanorod的材料比容量比较高，所以不用增加很多的材料来与anode匹配。不过有点疑惑，通 ... 这里是说，普通材料的嵌入/脱嵌过程中产生较大的应力,活性材料逐渐粉末化损失，而一维nanowire or nanorod可以防止这个过程的发生？额外问下：为啥可以很容易释放这些应力啊？（原文中没写，呵呵），查看更多

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亚磷酸二甲酯C2H7O3P在aspen中怎么输入？求大神帮忙，谢 ...？ 1.在databank中添加nist-trc； 2.插在cas号：868-85-9。大神，你有甘氨酸制取草甘膦反应的资料不？反应的转化率？查看更多

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冷却塔型号怎么计算？举例说明？一般工况是37度进水，32度出水，基本上都是5度的温差，如果水流量恒定，温差较大的话可以增大冷却塔大小，增加扩散面积，也能达到要求。你是做什么用的冷却塔，工业上用吗，温度是什么要求呢，另外就是水流量多大的。希望能帮助你查看更多

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安全环保

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技术求助：反渗透膜中硅酸盐垢如何清洗? 工业用水中硅化合物的去除方法　　工业用水中的硅化合物会对生产过程产生不同程度的危害。工业锅炉补给水、地热水和冷却水的硅化合物易于形成硅垢，且形成的硅垢致密坚硬，难于用普通的方法清洗，严重影响设备的传热效率以及安全运行；电子工业用水中，二氧化硅会对在单晶硅表面生产半导体造成极大危害，降低电子管及固体电路的质量［1］；在造纸工业用水中，二氧化硅含量过高，将使纸质变脆；在人造丝工业用水中，硅酸含量过高将影响纤维强度和粘胶的粘度；在湿法冶金用水中，硅酸含量超过一定范围将出现乳化而影响生产。为此在不同的给水处理系统中，均需充分考虑硅的脱除。 1　混凝脱硅　　混凝脱硅是利用某些金属的氧化物或氢氧化物对硅的吸附或凝聚来达到脱硅目的的一种物理化学方法。这是一种非深度脱硅方法，一般的混凝+过滤可去除60%的胶体硅，混凝+澄清过滤可去除90%的胶体硅［2］。 1.1　镁剂脱硅　　在实际的水处理过程中，常将镁剂和石灰一起使用以保证脱硅效果。　　镁剂脱硅的效果决定于［3］：　　①　ph值：镁剂脱硅的最佳ph值为10.1～10.3。为保证ph值，有必要在处理系统中加入石灰。石灰不仅有调节ph的功能，而且还可以除去部分二氧化硅、暂时硬度和二氧化碳等。　　②　混凝剂的用量：采用镁剂脱硅时，通常都加混凝剂。适当的混凝剂可以改善氧化镁沉渣的性质，提高除硅效果。一般所用的混凝剂为铁盐，其添加量为0.2～0.35 mmol/l。　　③　水温：提高水温可以加速除硅过程，并使除硅效果提高。40 ℃时出水中残留硅可达1 mg/l以下。　　④　水在澄清器中的停留时间：水温为30 ℃时，实际停留时间应＞1 h，40 ℃时约为1 h，120 ℃时为20～30 min。　　⑤　原水水质：原水的硬度大时对镁剂脱硅的效果有利。原水中硅化合物含量对镁剂比耗(mgmgo/mgsio2-3)有影响。镁剂比耗随原水硅化合物含量的增加而减少，随水中胶体硅所占比例的增加而增加，一般在5～20范围内。 1.2　铝盐脱硅　　决定铝盐脱除溶解硅效果的主要条件有［4］：　　①　温度：铝盐除硅的最适宜温度为20 ℃。　　②　接触时间：在铝盐与含硅水接触30 min后，大多数的硅可被吸附脱除。　　③　ph值：最适宜的ph值范围为8～9。　　④　铝盐的结晶状态和物理性质：铝盐沉淀物如果在溶液之外生成，尤其是经过干燥后，其脱硅效果将大为减弱，而铝盐的结晶状态对二氧化硅脱除效果的影响为：alo(oh)＞al2o3.3h2o＞al(oh)3。　　铝盐脱除胶体硅的最佳ph范围为4.1～4.7，大约40 mol胶体硅仅需1 mol铝盐即可。 1.3　铁盐脱硅　　氢氧化铁能够吸附溶解硅，一般认为其最有效的ph值为9，且无定形氢氧化铁比其晶形的吸附效果更佳。去除1 mg二氧化硅需要硫酸铁10～20 mg。在常温时，以铁盐作絮凝剂对含硅水进行处理后，可使水中残余溶解硅含量降至3～5 mg/l。据报道，在水中加入适量的三氯化铁、铝酸钠和氧化钙处理含硅20 mg/l的水，硅的去除率也可达70%～80%。 1.4　石灰脱硅　　采用熟石灰处理原水，于40 ℃下在除去暂时硬度和二氧化碳的同时，还可以除去部分二氧化硅，水中残留硅含量可降到30%～35%。　　张桂枝［5］在110～115 ℃的温度下采用消石灰对福建炼油厂锅炉给水进行了除硅预处理，认为由于生成casio3沉淀的缘故，硅去除率可达80%。　　近年来，水的混凝处理技术在两个方面有了较大进展。一方面是注重混凝剂的复配使用，通过药剂的协同效应以求得最佳的混凝沉淀效果。另一方面是一些无机高分子混凝剂，如聚铁、聚铝三号等开发成功并已投入工业应用。这些无机高分子混凝剂具有适用范围广和价格低的特点，与传统的铝盐和铁盐相比，它们免除了水解和聚合反应，不仅可以加快混凝过程，而且还减轻了许多影响混凝效果因素的干扰，脱除硅的效果比较稳定。 2　反渗透脱硅　　反渗透是自然现象渗透的逆过程。buecker认为［6］反渗透可以脱除胶体硅和溶解硅，适于净化锅炉补给水，回收部分冷却塔排污水，以及制取超纯水。另据资料［7］，反渗透法的总除盐效率可达93%，sio2可脱除80%。日本专利报道，对硅含量为5～20 mg/l的混合水，以渗透膜处理后，其出水硅含量可降至1 mg/l以下。　　80年代以来，反渗透已成为锅炉补给水的一种重要处理方法，常用于离子交换系统之前对给水进行预脱盐，以减轻离子交换系统的负担。 3　超滤脱除胶体硅　　超滤与反渗透法一样是以压力差为推动力，将欲处理水在一定压力作用下经过一个可让水和低分子量溶质透过而高分子物质、胶体物质不能透过的高分子膜，从而达到分离的目的。超滤处理所用的膜材料及装置与反渗透法相似，其分离机理主要是筛分效应。　　kun和kunin认为，在采用超滤脱除胶体硅时，膜孔径不宜超过100 nm，否则不能截留所有的胶体硅。有关试验表明其工作压力不宜超过7×104～7×105 pa。　　超滤法没有脱盐能力，对溶解硅几乎无脱除效果。 4　气浮脱除胶体硅　　cassell等采用微泡浮选(microflotation)的方法进行了水处理研究，发现这一方法对水中的所有胶态物质均有去除效果。浮选前先用1.0×10-3 mol/l的al(no3)3调浆10 min。捕收剂为月桂酸(浓度为25 mg/l)，起泡剂为乙醇(用量为2.5 ml/l)。除硅效果与ph值紧密相关，在ph为8～11的范围内，经浮选5 min后，胶体硅的脱除率可达90%以上。另外，铝盐的添加也是必不可少的，单独的胶体硅无法浮选。cassell认为微泡浮选成功的关键在于必须满足以下三个条件：①添加少量的电解质和调整ph值使胶体颗粒得以聚团；②添加合适的捕收剂和起泡剂以形成合乎要求的泡沫层；③气泡直径必须在 40～60 μm以下。 5　电凝聚脱硅　　电凝聚是利用电化学方法通过电极反应产生金属水合物凝聚剂，一定条件下可析出气泡，通过凝聚剂的吸附以实现聚沉，也可通过气泡的浮选来达到净水的方法。电凝聚常用于离子交换、电渗析、反渗透除盐之前，不仅可以有效脱除二氧化硅，而且能除浊、脱色，还能去除水中重金属离子、藻类和细菌等，对去除水中的有机物质也有一定效果。　　有报道采用电凝聚对硅含量为44 mg/l(其中离子态的硅含量37.5 mg/l)的原水进行脱硅处理后，其出水硅含量可降至大约1～2 mg/l的范围内。另外也有用电凝聚除硅，使硅酸总量由19.2 mg/l下降至1.37 mg/l，胶态硅酸由3.9 mg/l下降至0.26 mg/l的报道。某公司引进的一套蒸汽锅炉装置，其中的水处理工艺采用电凝聚除硅，原水溶解态二氧化硅5.5 mg/l，胶体态二氧化硅1～2 mg/l，处理后二氧化硅含量＜0.05 mg/l［8］。　　在非深度除硅时，采用电凝聚法效果最为明显。在铝和电能消耗量不大的情况下，可使水中的二氧化硅含量降低60%～80%。在深度或完全除硅时，电凝聚**大幅度增加铝和电能的消耗量，如含有二氧化硅40 mg/l的河水在电流密度2 ma/cm2时能完全除硅，但耗铝量高达50 g/m3，耗电量达0.6 kw.h/m3。 6　离子交换脱硅　　将不同的离子交换床结合使用，不仅可以达到很好的软化和除盐效果，而且也可以深度除硅，具有很高的处理深度。　　在离子交换系统中，一级复床除盐出水二氧化硅含量可低于0.5 mg/l，再经混床处理，出水的硅含量可以控制在0.02 mg/l以下(依环境温度的不同在0.005～0.03 mg/l的范围内波动)。我国电厂采用的离子交换除盐系统可以将硅含量由给水3～10 mg/l降至出水为0.005～0.08 mg/l。其指标依原水性质和处理系统的特点而定。　　美国纽约州电力煤气公司所属米利肯电站采用一种可移动式水处理系统，使全硅含量为3.47 mg/l(溶解硅为1.04 mg/l，胶体硅为2.43 mg/l)的原水通过该系统的2台并联强酸型阳离子树脂交换器和2台并联强碱型阴离子树脂交换器，出水中全硅含量降为0.029 mg/l，胶体硅为0，再经大孔阴离子树脂处理后，出水全硅含量可降至0.007 mg/l。　　日本专利公布了一种以氢氟酸饱和的弱碱性阴离子交换树脂除去水中硅酸的方法。将含有120 mg/l硅酸(以二氧化硅计)的水通过该树脂，出水中硅酸含量可降至1 mg/l以下。　　一般认为离子交换系统对于胶体硅无脱除能力，因而需在此前采用预处理和预脱盐去除悬浮物质和胶体物质，以防止其污染树脂，降低处理系统的效率。 7　阻垢剂抑制硅垢的形成　　硅垢阻垢剂是在用水系统中添加化学药剂以防止硅化合物从含有过饱和硅的水溶液中析出的方法。其主要作用表现在以下几个方面：延迟沉淀开始成垢的时间，使沉淀在成垢之前就随流体排出系统之外；使沉淀以悬浮状态存在，抑制其附着在管壁和设备上成垢；在一定的温度和压力条件下，完全抑制硅垢的形成。　　近年来，国内外对硅垢的阻垢剂作了大量的研究并提出了许多不同的配方，其主要的药剂组分基本上仍未超出现今使用的范围。阻垢剂总的发展趋向是向复合配方发展，而且要求耐温性能良好。虽然近10年来硅垢阻垢剂的试验室工作有了明显进展，但还不能认为是突破性的，大多配方在实用性上还有待改进。 8　其他的脱硅或抑垢方法　日本专利报道了一种在系统内连续或间断地采用超声波振动来防止地热水结硅垢的方法。wibowo等发现在高纯水制备系统中用紫外线和臭氧联合处理可以将胶体硅转化为溶解硅而除去。美国专利发明了用流态化的沙床作为晶核来沉积除去硅的方法。由于以上方法在工业上尚未得到广泛应用，在此不予详述。　　总之，在工业用水处理系统中，由于指标要求众多，对于硅化合物的处理不可能单独进行，需综合考虑给水中各种悬浮物质，胶体物质和溶解的有害气体、离子的处理效果，以保证系统出水各项指标符合工业生产要求。一般而言，混凝处理的深度较低，很难将出水中硅化合物的含量降至1 mg/l以下。如果用水系统水质要求较高，则需在混凝作业后安排反渗透、电凝聚或离子交换作业以提高出水质量。具体的水处理工艺流程需根据原水水质和不同工艺技术经济指标的优劣来选定。查看更多

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化产回收中氨做碳酸铵的工艺？ 这样成本上有优势吗，这是最关键的，至于工艺可行性，我想应该没有问题。查看更多

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DCS和SIS系统点检问题？ 请问你们点检都要做些什么查些什么问题，需要什么专业软件？查看更多

#DCS

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符号和缩写词问题？ search in google fyi kompensator [der] 平衡器。补偿器。膨胀接头。补偿电位计。 compensator, expansion joint, potentiometer查看更多

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ASPEN忽然打不开了？ 什么版本，11.1直接复制进去，高版本的店家ligen.exe生成就可以了，然后覆盖好的谢谢我试试看查看更多

#PEN

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变换阻力大，进口超压怎么处理？ 换热器的清洗，换热器结构造成压差增大，换热效率下降。查看更多

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仪器设备

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高压柱塞泵？ 柱塞泵没有必要零负荷试车，打开回流线就可以，况且柱塞运动时需要介质的润滑。查看更多

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化药

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求助“愈创木酚磺酸钾”的精制方法！？ tigerdu：怎么联系你啊！ songlic@gmail.com 查看更多

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坛里有懂防腐涂层的技术规范英文的吗? 你可以在百度里搜索“nace防腐标准的中英文对照版”看看。。。查看更多

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化学学科

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关于釜顶分配台自聚，大家都有什么对策? 通入氮气对压降的判断是否会产生干扰？通入量特别少，不会影响压降。查看更多

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一次盐水盐泥的处理？ 做水泥肯定是不行的,含cl太高,对水泥烧成有影响,容易产生堵塞,另外水泥现在也有了cl离子的质量指标.查看更多

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压力表在DCS室内偏小？ 变送器到dcs的回路测试都偏低证明是现场表的d/a输出转换块精度超差可能性比较大，另外从变送器到安全栅的信号线也要测试一下绝缘查看更多

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这个题如何选择？某市一金属矿山企业发生一起严重透水事故，市安全生产监督管理局要求该市所有金属矿山企业一律停产，全面开展隐患排查，经安全评估并验收合格后，方可恢复生产。该种做法，符合安全生产管理原理的（　a　）。a．动态相关原则b．监督原则c．行为原则d．能级原则查看更多

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为什么方框里的条件都不符合还是一定要让我把水设定成一 ...？这里只是先检测到你用的方法和组分之间有问题，一个问题一个问题解决就行了。等你解决了这个问题后软件会告诉你下一个问题的，这个是傻瓜式的next，不会把所有的问题一股脑地抛给你。查看更多

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简介

职业：北京吉星工程项目管理有限公司 - 实习生-操作员

学校：西南民族大学 - 化学与环境保护学院

地区：浙江省

个人简介：一件事实是一条没有性别的真理。查看更多

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