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自乳化环氧树脂乳液储存稳定性与哪些因素有关? 请教各位达人自乳化环氧树脂乳液储存稳定性与哪些因素有关呢？我做出来的环氧树脂乳液刚做出来的时候外观上看可做出淡黄色透明液，半透明泛蓝液，乳白液。但是放置一天后就都变成石灰水状的乳白液了，再一天就下层有白色石灰状沉淀了，摇一摇下层白色石灰状沉淀可消失，但静止一段时间又沉淀。? ? 大家说说乳液稳定性与哪些因素有关？我改变了引入亲水基团羧基的量，改变过中和度，反应时间温度等都没效果。乳液稳定性和固含量、助溶剂量、高速乳化时转速及时间有决定性关系不？我做的乳液固含量20%左右（粘度可能比较低像水一样），高速乳化时转速设定为3000r/min,45min。大家各抒所见，畅所欲言指点下我，真的折磨了我好久。谢谢大家。查看更多 5个回答 . 12人已关注

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超疏水涂料合作机会？无锡市顺业科技有限公司开发成功几款超疏水涂料，先进行应用试验测试。有意提供样品进行进行研究试验。主要的涂料有：1. 聚氨酯树脂为主的超疏水涂料2. 有机硅树脂为主的超疏水涂料3.环氧树脂为主的超疏水涂料希望试验开展如下方面的研究：1）防腐蚀性能2）海洋防污性能3）防结冰性能4）其它目前涂料的基本性能是：静态接触角大于150度，滚动角小于10度硬度大于2H, 附着力，1级或者0级，柔韧性：1mm，耐冲击50cm（均按照国标进行）. 可简单调色：红色或者蓝色。目前原始通用型超疏水未进行任何调色。均属于双组元涂料。另外有2款透明超疏水处理剂。可直接喷涂于任何表面（酒精溶剂）。可以耐大雨冲击。更多的信息请来电信垂询。欢迎合作和开展应用研究。更多的信息请来电或者来信联系：查看更多 6个回答 . 1人已关注

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模板法合成纳米材料？ 急求模板法可以很撑纳米颗粒吗？查看更多 5个回答 . 18人已关注

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求助关于PI板材的成型？ 目前市场上关于聚酰亚胺均是薄膜的成型方法，但却很少有看到聚酰亚胺板材的制备方法。哪位大神给指点一下！查看更多 5个回答 . 4人已关注

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请问磁性数据中可靠性因子如何计算？ 有磁性数据，需要计算个可靠性因子R值，请问计算公式是什么？一般都是什么数量级的查看更多 3个回答 . 24人已关注

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请问一般来说做高分子研究对身体危害大吗? 如题，想了解一下查看更多 2个回答 . 30人已关注

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纳米二氧化硅抛光研磨液VK-SP30F物性介绍和应用展望？纳米二氧化硅抛光研磨液VK-SP30F物性介绍和应用展望来源：研磨抛光导报? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ?? ? 2012年8月16日? ?? ?纳米二氧化硅抛光液(VK-SP30F)又称研磨膏，切削液，抛光浆，TEM下显示50nm方形不规则片状，表明切削力强；ICP滴定结果显示纯度99.9%，纯度高于国内同类产品，显示杂质少，抛光无黑点，整个生产全部1000级净化车间完成，进一步保证了其高纯度的品质；VK-SP30F的固含量小于等于25%，放置两年都无硬沉淀，可见其稳定性，优于日本同类产品；外观上，液体呈现偏蓝相乳白色；为适合抛光研磨客户的不同需求，配有不同酸性和碱性两种pH值，酸性2-3，碱性9-10；本品储存温度范围大，经试验，低温冷冻后，基本不影响使用性能；VK-SP30F中含高度晶化的纳米二氧化硅颗粒，在浆液中呈现稳定的空间立体网络，不触变、不凝胶，且金属离子含量控制的非常好，具有高稳定性能，悬浮性能好，不变稠，不析出晶体，不腐蚀设备、粘度小，颗粒细而均匀，不会有划痕，使用后容易清洗等优点；适合用于各种铝宝石抛光，锆宝石抛光，金属镜面抛光，如不锈钢镜面抛光，铝材镜面抛光，手机外壳镜面抛光，光学玻璃抛光，液晶显示屏抛光，半导体硅片、不锈钢、铝合金、蓝宝石等的表面抛光。VK-SP30F具有以下特性：A.高抛光速率：利用大粒径的胶体二氧化硅粒子达到高速抛光的目的；B.粒度可控：根据不同需要，可生产不同粒度的产品（10-150 nm）；C.高纯度：（Cu含量小于50 ppb），有效减小对电子类产品的沾污，高平坦度加工，本品抛光利用SiO2的胶体粒子，不会对加工件造成物理损伤，达到高平坦化加工。下面是具体的各个领域抛光介绍:1.LED行业? ???目前LED芯片主要采用的衬底材料是蓝宝石，在加工过程中需要对其进行减薄和抛光，蓝宝石的硬度极高，普通磨料难以对其进行加工；在用金刚石研磨液对蓝宝石衬底表面进行减薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的划痕，利用CMP抛光液 “软磨硬”的原理很好的实现了蓝宝石表面的精密抛光，随着LED行业的快速发展，聚晶金刚石研磨液及二氧化硅溶胶抛光液(VK-SP30F)经验证，非常适合其抛光，效果好，速度快，成本低，市场需求也与日俱增。2.半导体行业? ?? ?CMP技术还广泛的应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路中(ULSI)对基体材料硅晶片的抛光，随着半导体工业的急速发展，对抛光技术提出了新的要求，传统的抛光技术（如：基于淀积技术的选择淀积、溅射等）虽然也可以提供“光滑”的表面，但却都是局部平面化技术，不能做到全局平面化，而化学机械抛光技术解决了这个问题，随着VK-SP30F的问世，解决了这一难题，同时它也是目前唯一的可以在整个硅圆晶片上全面平坦化的工艺技术。? ???VK-SP30F采用新型纳米磨料抛光液的制备方法，最适合半导体精抛。据安徽某公司的高级工程师兼顾问博士XUHUA先生透漏，VK-SP30F是先将磨料Ⅱ均匀溶解于去离子水中，然后在千级净化室的环境内，在真空负压的动力下，通过质量流量计将溶解的磨料Ⅱ液体输入容器罐中，与容器罐内的所需重量的磨料Ⅰ进行混合并充分搅拌，混合均匀后将抛光液的其余组分加入容器罐内再继续充分搅拌，混合均匀即制备成成品抛光液；以粒径较小的水溶性二氧化硅溶胶和粒径较大的气相二氧化硅粉末混合作为磨料，既提高了磨料的分散性能，减少抛光后微晶玻璃表面划伤，而且使抛光后的微晶玻璃表面的粗糙度和波纹度降低；可以大大提高抛光速率，化学稳定性好，使用安全；所以一直到现在，半导体行业的用户一直称赞其抛光效果呢：实在是行业一流！ 3.不锈钢镜面抛光? ???不锈钢镜面抛光的时候首先考度到的是一次性良率与镜面光泽度是否达标，不锈钢镜面收光的时候利用二氧化硅抛光液(VK-SP30F)恰恰能达到这个效果，一次性良率极高，而且光泽度也非常良好，这也促成了二氧化硅抛光液的广泛使用。4.光通讯领域? ???VK-SP30F是专门为光纤连接器开发的抛光产品，能达到超精细抛光效果，抛光后连接器端面没有划伤和缺陷，3D指标和反射衰减指标达到国际标准。5.硬盘基片的抛光? ???二氧化硅磨料（VK-SP30F）具有粒度均匀、分散性好、平坦化效率高等优点，特别适合硬盘基片的抛光；经用户试验论证得到VK-SP30F的抛硬盘基片的切削力是广州A家公司产的氧化硅的5倍，且VK-SP30F抛光后不带任何划痕，不像上海产的，用完之后还要进行一道精抛，为此VK-SP30F还为用户节约时间，节约成本。6.硅晶圆的粗抛和精抛? ?? ?纳米二氧化硅浆料（VK-SP30F）pH值、H2O2浓度、固体含量以及抛光转速、压力和时间等不同抛光工艺参数，对n型半导体单晶硅片（100）和（111）晶面化学机械抛光（chemical mechanical polishing，CMP）去除速率的影响和作用机理，表明：抛光速率随二氧化硅（VK-SP30）固体含量、抛光转速及压力的增加而增大，随抛光时间的增加而减小；在pH值为10．5和H2O2为1％（体积分数）时，抛光速率出现最大值；相同抛光工艺条件下（100）晶面的抛光速率远大于（111）晶面；半导体硅片CMP过程是按照成膜（化学腐蚀作用）→去膜（机械磨削作用）→再成膜→再去膜的方式进行，直到最终全局平坦化。实验所获得适合n型半导体硅片CMP的优化工艺参数为：5％～10％SiO2（质量分数），pH=10．5，1％H2O2，压力为40kPa及（110）晶面和（111）晶面的抛光转速分别为100r／min和200r／min；在该条件下10％SiO2浆料中抛光30min得到的抛光硅片的表面粗糙度为0．7nm左右。VK-SP30F具有抛光速率高，抛光后易清洗，表面粗糙度低，能够得到总厚偏差（TTV）极小的质量表面。7.其他领域的应用如光学玻璃、精密金属部件，电路线板表面抛光，手机屏幕保护，汽车挡风玻璃等领域，抛光效果显著，让我们共同一试。查看更多 4个回答 . 8人已关注

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请问透射电镜的衍射花样中10 1/nm的比例尺是什么意思? 请问透射电镜的衍射花样中10 1/nm的比例尺是什么意思？查看更多 3个回答 . 11人已关注

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求助氟硅酸钠在冷水中为中性，热水中为酸性的原因？ 求助氟硅酸钠在冷水中为中性，热水中为酸性的原因，谢谢！查看更多 2个回答 . 4人已关注

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求磨电极用砂纸，经销商的电话号码？ 求磨电极用砂纸，经销商的电话号码，谢谢查看更多 7个回答 . 4人已关注

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请教高手液相色谱的问题？ 我想做液相色谱 ??溶剂是水能做吗查看更多 4个回答 . 25人已关注

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求问Q-TOF进样浓度？本人用LC-MS/MS做定量比较多，对TOF不了解，第一次做，所以求教。打算用微粒体做下体外代谢，想用TOF扫下样，因为是想摸下代谢物，所以想浓度尽可能高一些，不知道TOF的合适浓度一般在什么范围内。母药是正离子，响应还蛮不错。1μg/ml？2.5μg/ml？10μg/ml会不会有点高？查看更多 0个回答 . 29人已关注

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汞膜电极检测重金属？ RT，在玻碳电极上镀汞膜，用于重金属离子的检测，镀汞膜后，需不需要在处理一下？怎样保证汞膜的稳定性？重现性？请大家指点。查看更多 3个回答 . 24人已关注

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毛细管柱知识汇总？ 介绍了毛细管色谱柱的相关知识查看更多 0个回答 . 14人已关注

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反应速率和空速的关系，菜鸟求助大神？做CO氧化反应计算某个反应温度下的反应速率 k (mol g-1 s-1)= SV (mol g-1 s-1) × CO% (进气中CO的含量) × Con.% (CO转化率) ÷ 22.4 (L mol-1)这样岂不是空速越大，进气中CO的含量越大，其反应速率也越大？比如A, B两个催化剂 A: 空速100 ml g-1 s-1 进气1%CO 200 ℃时 CO转化率100%B: 空速200 ml g-1 s-1 进气2%CO 200 ℃时 CO转化率50%这样的话200 ℃时B的转化率是A的两倍，是不是能说明B 比 A 性能更好？查看更多 4个回答 . 27人已关注

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聚丙烯！！！！！！！！！！！！！！！？请问聚丙烯能吸收硅油吗？？？？本人最近在做聚丙烯共混材料的耐热，设定的位移值为0.21mm，但是每次测的时候位移值都有一段负值（位移值不是从0变化到0.21），请教别人说可能是材料受热膨胀或聚丙烯吸收硅油导致的体积膨胀所致，是这样吗？？、查看更多 5个回答 . 21人已关注

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最近取了污水厂污泥进行聚磷菌富集，发现在厌氧阶段是COD增加的，怎么办啊? 厌氧时间2.5h，好氧时间3h，进水COD 200 mg/L、TN 15 mg/L、TP 9 mg/L。培养了5-6天，厌氧阶段的COD都是增加的，有的甚至加到了500多，怎么办啊。而且SVI由100增加到了200多，现在泥都沉不下去啊。查看更多 6个回答 . 29人已关注

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怎么在Nyquist plots添加频率? 怎么在Nyquist plots添加频率？查看更多 4个回答 . 14人已关注

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求大神打板！帮忙分析下，急急急！！！！！！！！！！？原料配比(质量份)原料? ?? ?? ???1 号? ???2号? ???3号? ?硅酸羧酸钠? ???30? ?? ? 10? ?? ? 30磺酸? ?? ?? ?? ?? ?30? ?? ? 20? ?? ? 15氢氧化钠? ?? ???15? ?? ???5? ?? ???-原料? ?? ?? ?? ???1号? ?? ? 2号? ???3号碳酸钠? ?? ?? ?? ? 105? ?? ?75? ?? ???60 烷基苯磺酸钠? ?90? ?? ? 80? ?? ???75? ? 水? ?? ?? ?? ?? ?? ???57? ?? ? 110? ?? ? 120制备方法? ?将水于硅酸羧酸钠混合,加热升温至全部融化,然后至水合凝胶体,加入磺酸,搅拌均匀,在加入氢氧化钠,调节PH值至8-9之间,加入阴离子、非离子型表面活性剂 ,搅拌均匀,加入碳酸钠,搅拌均匀,将上诉胶体状组合物用挤出机挤出,最后,用真空处理、包装,即制成胶体洗涤剂产品。原料配伍? ?本品各组分质量份配比范围为,硅酸羧酸钠1.0-10,磺酸5.0-10,碳酸钠20-30,水19-40。其中,配方中所含有硅酸羧酸钠于水系以水合硅酸凝胶作为胶体洗涤剂的载体。? ? 在配方中还还有1.7-5的氢氧化钠,将该产品PH值调至8.0-9.0以进一步改善本品的性能。? ???另外,所述的表面活性剂可为烷基苯磺酸钠或脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠或肥皂等阴离子表面活性剂,也可以采用脂肪醇聚氧乙烯醚或烷基醇酰胺等非离子表面活性剂。??产品应用??本品既可作为工业清洗剂使用,又可用于餐具,衣服等日常洗涤剂。适用水温较宽,尤其在42-60度时,洗涤效果最好。产品特性? ?本品配伍合理,洗涤效果好,去污力强,乳化、皂化并用,且能有效防止污垢再沉积。能缓冲碱性,逐步释放,减少对被洗涤的物品的侵蚀,不伤手,且对手有一定的滋润作用。能降低水的硬度,在采用硬度较高的水时,仍不影响洗涤效果。产品为无磷、无铝产品,且不含有机溶剂和填料,稳定性可达五年以上,外观呈乳白色胶体状. 一下是别人做出来的！为什么我自己打板一直出不了这效果！！求解！！！！！IMG_0028.JPGIMG_0029.JPG查看更多 6个回答 . 17人已关注

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含纳米丙烯酸树脂涂层加入固化剂无法固化，而且涂板发黄？小弟做的含纳米丙烯酸树脂涂层在涂板上，加入固化剂经过烘烤后，涂板发粘无法固化，而且涂板发黄，是不是固化剂N3390与什么反应的结果。? ???怎样制备中性硅溶胶查看更多 3个回答 . 20人已关注

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简介

职业：杭州双安科技有限公司 - 自控设计工程师

学校：电子科技大学中山学院 - 自动化工程系

地区：青海省

个人简介：读书使人心明眼亮。查看更多

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