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液氨储罐的设计？ 发一份液氨储槽的pdf 图纸：大哥能帮忙发下cad图纸吗查看更多

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催化裂化余热锅炉？确如各位所说的那样，水封罐的作用是起个切断烟气的作用。能通过水封罐来切断烟气的一个重要的原因是这里的烟气压头已经很低了，否则是不可能做到的。比如在烟机入口就必须要用阀门来加以切断。 [ ]查看更多

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请问晶圆有毒吗？晶圆制造工艺　　1、表面清洗　　晶圆表面附着一层大约2um的al2o3和甘油混合液保护之,在制作前必须进行化学刻蚀和表面清洗。　　2、初次氧化　　有热氧化法生成sio2 缓冲层，用来减小后续中si3n4对晶圆的应力氧化技术：干法氧化si(固)+o2 à sio2(固)和湿法氧化si(固)+2h2o à sio2(固)+2h2。干法氧化通常用来形成，栅极二氧化硅膜，要求薄，界面能级和固定电荷密度低的薄膜。干法氧化成膜速度慢于湿法。湿法氧化通常用来形成作为器件隔离用的比较厚的二氧化硅膜。当sio2膜较薄时，膜厚与时间成正比。sio2膜变厚时，膜厚与时间的平方根成正比。因而，要形成较厚sio2膜，需要较长的氧化时间。sio2膜形成的速度取决于经扩散穿过sio2膜到达硅表面的o2及oh基等氧化剂的数量的多少。湿法氧化时，因在于oh基sio2膜中的扩散系数比o2的大。氧化反应，si 表面向深层移动，距离为sio2膜厚的0.44倍。因此，不同厚度的sio2膜，去除后的si表面的深度也不同。sio2膜为透明，通过光干涉来估计膜的厚度。这种干涉色的周期约为200nm，如果预告知道是几次干涉，就能正确估计。对其他的透明薄膜，如知道其折射率，也可用公式计算出(dsio2)/(dox)=(nox)/(nsio2)。sio2膜很薄时，看不到干涉色，但可利用si的疏水性和sio2的亲水性来判断sio2膜是否存在。也可用干涉膜计或椭圆仪等测出。sio2和si界面能级密度和固定电荷密度可由mos二极管的电容特性求得。(100)面的si的界面能级密度最低，约为10e+10-- 10e+11/cm ?2.ev-1 数量级。(100)面时，氧化膜中固定电荷较多，固定电荷密度的大小成为左右阈值的主要因素。　　3、热cvd(hotcvd)/(thermalcvd) 　　此方法生产性高，梯状敷层性佳(不管多凹凸不平，深孔中的表面亦产生反应，及气体可到达表面而附着薄膜)等，故用途极广。膜生成原理，例如由挥发性金属卤化物(mx)及金属有机化合物(mr)等在高温中气相化学反应(热分解，氢还原、氧化、替换反应等)在基板上形成氮化物、氧化物、碳化物、硅化物、硼化物、高熔点金属、金属、半导体等薄膜方法。因只在高温下反应故用途被限制，但由于其可用领域中，则可得致密高纯度物质膜，且附着强度极强，若用心控制，则可得安定薄膜即可轻易制得触须(短纤维)等，故其应用范围极广。热cvd法也可分成常压和低压。低压cvd适用于同时进行多片基片的处理，压力一般控制在0.25-2.0torr之间。作为栅电极的多晶硅通常利用hcvd法将sih4或si2h。气体热分解（约650oc）淀积而成。采用选择氧化进行器件隔离时所使用的氮化硅薄膜也是用低压cvd法，利用氨和sih4 或si2h6反应面生成的，作为层间绝缘的sio2薄膜是用sih4和o2在400--4500oc的温度下形成sih4+o2-sio2+2h2或是用si(oc2h5)4(teos:tetra ethoxy silanc)和o2在750oc左右的高温下反应生成的，后者即采用teos形成的sio2膜具有台阶侧面部被覆性能好的优点。前者，在淀积的同时导入ph3 气体，就形成磷硅玻璃（ psg： phosphor silicate glass）再导入b2h6气体就形成bpsg(borro ? phosphor silicate glass)膜。这两种薄膜材料，高温下的流动性好，广泛用来作为表面平坦性好的层间绝缘膜。　　4、热处理　　在涂敷光刻胶之前，将洗净的基片表面涂上附着性增强剂或将基片放在惰性气体中进行热处理。这样处理是为了增加光刻胶与基片间的粘附能力，防止显影时光刻胶图形的脱落以及防止湿法腐蚀时产生侧面腐蚀(sideetching)。光刻胶的涂敷是用转速和旋转时间可自由设定的甩胶机来进行的。首先、用真空吸引法将基片吸在甩胶机的吸盘上，将具有一定粘度的光刻胶滴在基片的表面，然后以设定的转速和时间甩胶。由于离心力的作用，光刻胶在基片表面均匀地展开，多余的光刻胶被甩掉，获得一定厚度的光刻胶膜，光刻胶的膜厚是由光刻胶的粘度和甩胶的转速来控制。所谓光刻胶，是对光、电子束或x线等敏感，具有在显影液中溶解性的性质，同时具有耐腐蚀性的材料。一般说来，正型胶的分辩率高，而负型胶具有感光度以及和下层的粘接性能好等特点。光刻工艺精细图形(分辩率，清晰度)，以及与其他层的图形有多高的位置吻合精度(套刻精度)来决定，因此有良好的光刻胶，还要有好的曝光系统。　　5、此处用干法氧化法将氮化硅去除　　6、离子布植将硼离子 (b+3) 透过 sio2 膜注入衬底，形成p型阱离子注入法是利用电场加速杂质离子，将其注入硅衬底中的方法。离子注入法的特点是可以精密地控制扩散法难以得到的低浓度杂质分布。mos电路制造中，器件隔离工序中防止寄生沟道用的沟道截断，调整阀值电压用的沟道掺杂， cmos的阱形成及源漏区的形成，要采用离子注入法来掺杂。离子注入法通常是将欲掺入半导体中的杂质在离子源中离子化，然后将通过质量分析磁极后选定了离子进行加速，注入基片中。　　7、去除光刻胶放高温炉中进行退火处理以消除晶圆中晶格缺陷和内应力，以恢复晶格的完整性。使植入的掺杂原子扩散到替代位置，产生电特性。　　8、用热磷酸去除氮化硅层，掺杂磷 (p+5) 离子，形成 n 型阱，并使原先的sio2 膜厚度增加，达到阻止下一步中n 型杂质注入p 型阱中。　　9、退火处理，然后用 hf 去除 sio2 层。　　10、干法氧化法生成一层sio2 层，然后lpcvd 沉积一层氮化硅。此时p 阱的表面因sio2 层的生长与刻蚀已低于n 阱的表面水平面。这里的sio2 层和氮化硅的作用与前面一样。接下来的步骤是为了隔离区和栅极与晶面之间的隔离层。　　11、利用光刻技术和离子刻蚀技术，保留下栅隔离层上面的氮化硅层。　　12、湿法氧化，生长未有氮化硅保护的 sio2 层，形成 pn 之间的隔离区。　　13、热磷酸去除氮化硅，然后用 hf 溶液去除栅隔离层位置的 sio2 ，并重新生成品质更好的 sio2 薄膜 , 作为栅极氧化层。　　14、lpcvd 沉积多晶硅层，然后涂敷光阻进行光刻，以及等离子蚀刻技术，栅极结构，并氧化生成 sio2 保护层。　　15、表面涂敷光阻，去除 p 阱区的光阻，注入砷 (as) 离子，形成 nmos 的源漏极。用同样的方法，在 n 阱区，注入 b 离子形成 pmos 的源漏极。　　16、利用 pecvd 沉积一层无掺杂氧化层，保护元件，并进行退火处理。　　17、沉积掺杂硼磷的氧化层。含有硼磷杂质的sio2 层，有较低的熔点，硼磷氧化层(bpsg) 加热到800 oc 时会软化并有流动特性，可使晶圆表面初级平坦化。　　18、溅镀第一层金属利用光刻技术留出金属接触洞，溅镀钛+ 氮化钛+ 铝+ 氮化钛等多层金属膜。离子刻蚀出布线结构，并用pecvd 在上面沉积一层sio2 介电质。并用sog (spin on glass) 使表面平坦，加热去除sog 中的溶剂。然后再沉积一层介电质，为沉积第二层金属作准备。　　（1）薄膜的沉积方法根据其用途的不同而不同，厚度通常小于 1um 。有绝缘膜、半导体薄膜、金属薄膜等各种各样的薄膜。薄膜的沉积法主要有利用化学反应的cvd(chemical vapor deposition) 法以及物理现象的pvd(physical vapor deposition) 法两大类。cvd 法有外延生长法、hcvd ， pecvd 等。pvd 有溅射法和真空蒸发法。一般而言， pvd 温度低，没有毒气问题； cvd 温度高，需达到1000 oc 以上将气体解离，来产生化学作用。pvd 沉积到材料表面的附着力较cvd 差一些， pvd 适用于在光电产业，而半导体制程中的金属导电膜大多使用pvd 来沉积，而其他绝缘膜则大多数采用要求较严谨的cvd 技术。以pvd 被覆硬质薄膜具有高强度，耐腐蚀等特点。　　（2）真空蒸发法（ evaporation deposition ）采用电阻加热或感应加热或者电子束等加热法将原料蒸发淀积到基片上的一种常用的成膜方法。蒸发原料的分子（或原子）的平均自由程长（ 10 -4 pa 以下，达几十米），所以在真空中几乎不与其他分子碰撞可直接到达基片。到达基片的原料分子不具有表面移动的能量，立即凝结在基片的表面，所以，在具有台阶的表面上以真空蒸发法淀积薄膜时，一般，表面被覆性（覆盖程度）是不理想的。但若可将crambo真空抽至超高真空（ 10 – 8 torr ），并且控制电流，使得欲镀物以一颗一颗原子蒸镀上去即成所谓分子束磊晶生长（ mbe ： molecular beam epitaxy ）。　　（3）溅镀（ sputtering deposition ）所谓溅射是用高速粒子（如氩离子等）撞击固体表面，将固体表面的原子撞击出来，利用这一现象来形成薄膜的技术即让等离子体中的离子加速，撞击原料靶材，将撞击出的靶材原子淀积到对面的基片表面形成薄膜。溅射法与真空蒸发法相比有以下的特点：台阶部分的被覆性好，可形成大面积的均质薄膜，形成的薄膜，可获得和化合物靶材同一成分的薄膜，可获得绝缘薄膜和高熔点材料的薄膜，形成的薄膜和下层材料具有良好的密接性能。因而，电极和布线用的铝合金（ al-si, al-si-cu ）等都是利用溅射法形成的。最常用的溅射法在平行平板电极间接上高频（ 13.56mhz ）电源，使氩气（压力为1pa ）离子化，在靶材溅射出来的原子淀积到放到另一侧电极上的基片上。为提高成膜速度，通常利用磁场来增加离子的密度，这种装置称为磁控溅射装置（ magnetron sputter apparatus ），以高电压将通入惰性氩体游离，再藉由阴极电场加速吸引带正电的离子，撞击在阴极处的靶材，将欲镀物打出后沉积在基板上。一般均加磁场方式增加电子的游离路径，可增加气体的解离率，若靶材为金属，则使用dc 电场即可，若为非金属则因靶材表面累积正电荷，导致往后的正离子与之相斥而无法继续吸引正离子，所以改为rf 电场（因场的振荡频率变化太快，使正离子跟不上变化，而让rf-in 的地方呈现阴极效应）即可解决问题。　　19、光刻技术定出 via 孔洞，沉积第二层金属，并刻蚀出连线结构。然后，用 pecvd 法氧化层和氮化硅保护层。　　20、光刻和离子刻蚀，定出 pad 位置。　　21、最后进行退火处理，以保证整个 chip 的完整和连线的连接性。从生产工艺看有毒有害的物质还是不少。查看更多

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别再拿雾霾当玩笑了，它是一级致癌物？ 在城市努力挣钱，然后搬到农村住？查看更多

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离心泵压力问题？ 泵的入口压力升高啊，出口压力当然也升高查看更多

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《保护层分析简化的过程风险评估》？ 三楼的答案非常正确，就是此书。大家一起学习吧。查看更多

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紧急切断阀可以用电动的吗? 紧急切断阀要求的动作时间很短，一般的电动阀达不到要求，可以用电动液压切断阀，用气动的现场没气的话可以用气瓶，定时检查更换就可！查看更多

#紧急切断阀

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合成触煤，在正常生产中，发现床温快速向下跨掉，但其它 ...？ 一是带液；二是冷激阀开得过大;查看更多

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由于隐隐约约？ http:///biz/2010/0329/136278.html ，这个链接说明了神华煤制油想和中石化中石油对着干了查看更多

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惊闻宜化双环壳牌炉运行240天？ 20# lhmqh 情况属实，他们是去年10月份检修，直到今年六月中旬才停车检修的，而且他们打多数情况之下是满负荷生产的，7月末一次开车成功！查看更多

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加氢改质装置分馏塔分离问题？ 你来调整什么，碳十查看更多

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v锥流量计不准？ v锥测气体确实存在不稳定，不知道引压管有没有加隔离罐啊，，两边灌满隔离液就好多了。。试试。没有那儿罐，他现在已经自己恢复正常了，只是不知道什么原因导致自己恢复的，我想可能里面有杂质吧查看更多

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请教大家关于煤气净化脱硫？你是怎么计算的单质硫的量的？每小时6000标准立方，每立方都含有166g/nm3单质硫了。含硫气体主要分两部分，一个是装置产生的含硫干气约217.7kg/h2s，一个是煤气发生炉产生的，5000nm3/h，1500ppm h2s。一吨那个当时估算多了查看更多

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四个班组怎么倒班最好? 回复 1# ls19860713 当班期间劳动强度大的四班三倒，当班期间操作调整不大，劳动强度不高的四班两倒好。查看更多

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精盐水贮槽问题？ 我们用的是伍棣的槽子，我们进槽盐水经螯合树脂塔后再加温到72°进电解槽，降低阴阳极温差。查看更多

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化工厂爆炸、起火事故后，危化品的朋友圈是怎样? 图片在哪里查看更多

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98%浓硫酸用什么材质 ...？ 借道lz的帖子学习一下，顺便问下诸位，这类纯化学腐蚀的环境，单论防腐效果，不考虑成本因素的话，为什么不是316l更好呢？查看更多

#98%浓硫酸

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简介

职业：上海平创化工科技有限公司 - 化工研发

学校：洛阳师范学院 - 化学化工学院

地区：贵州省

个人简介：友谊像清晨的雾一样纯洁，奉承并不能得到友谊，友谊只能用忠实去巩固它。查看更多

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