关于金纳米材料检测砷时,铜的干扰问题,跪求大神帮忙?我是用紫外光照一步法还原氧化 石墨烯 , 氯金酸 溶液制备石墨烯/金纳米材料,测量 重金属 砷,现在有个编辑的意见我一直做不出来,希望大神可以帮帮我,万分感谢呢 An intriguing phenomenon in figure 9, the peak potential of Cu (II) is at -0.1 V and on the negative side of the peak of As (III). However, in most references(reference 25, 26, 31, 32, 54, 64), the potential of Cu(II) is at about 0.3 V and more positive pontenial than the peak of As(III) in HCl supporting electrolytes. Expecially, ASLSV responses at electroreduced at graphene oxide-Au nanoparticles composite film modifed GCE in 0.20 M aqueous HCl, which have the same supporting electrolytes and similar electrode(reference 54) 我想问问为什么我做的时候就是在左边出峰,确实大多数文献都是在砷的右边出峰,在0.3V左右,而我的Cu在-0.1V左右,有没有比较好的解释方法呢!我就只有在一篇博士论文里看到和我相似的,他在发表的SCI里面并没有提到呢。他在论文里提到:但是,当Cu(II)离子加入后,溶出曲线出现3个未分离的氧化峰,电位分别为0.0,+0.05和+0.2V,它们对应的是Cu、Cu3As2和As的氧化峰,继续加入As(m)离子溶液,仍会出现Cu和Cu3As2的溶出肩峰,从而扭曲As的溶出峰,影响As(III)离子的定量测定。这种可以作为参考文献,作为回答问题的依据吗? 我现在很困惑,希望哪位大神可以帮帮我,真是万分感谢,回答的好我愿意多出金币呢,只求一个满意的答复, 1.jpg QQ图片20141110205804.jpg查看更多3个回答 . 23人已关注