CHI电化学工作站能做脉冲电镀吗?请教各位电化学大神,我最近看了一篇文献是讲用pulse plating沉积Pt纳米颗粒的,其中有一些参数比如:the pulse time-on amounts to t1=10 ms and the pulse time-off to t2=20 ms 还有电位数值等等,我想问一下CHI 电化学工作站 能做这个脉冲电镀实验吗?如果能做那具体的实验技术改选哪一项?我看CHI电化学工作站中有很多有关脉冲的实验技术比如差分脉冲电流法、差分脉冲伏安法等。查看更多3个回答 . 13人已关注